等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态3种状态存在,但在一些特殊的情况下可以以第四种状态存在,如太阳表面的物质和地球大气中电离层中的物质。这类物质所处的状态称为等离子体状态,又称为物质的第四态。由于等离子体中的电子、离子和自由基等活性粒子的存在,其本身很容易与固体表面发生反应。等离子体清洗主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。
1、在经过等离子清洗之后,被清洗物体已经很干燥,不必再经干燥处理即可送往下道工序。
2、不使用有害溶剂,清洗后也不会产生有害污染物,属于有利于环保的绿色清洗方法。
3、整个清洗工艺流程在几分钟即可完成,因此具有效率高的特点。
4、它可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的内部并完成清洗任务,所不用多考虑被清洗物体形状的影响。
5、在完成清洗去污的同时,还能改变材料本身的表面性能。如提高表面的润湿性能,改善膜的附着力等。
6、等离子清洗的技术特点是,它不分处理对象,可处理不同的基材。无论是金属、半 导体、氧化物还是高分子材料都可用等离子体很好地处理。因此,特别适合不耐热和不耐溶剂的基底材料。而且还可以有选择地对材料的整体、局部或复杂结构进行部分清洗。
7、自动化程度高,具有高精度的控制装置,时间控制的精度很高;正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层,表面质量得到保证;由于是在真空中进行,不污染环境,保证清洗表面不被二次污染。
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