高纯度金颗粒蒸镀仪KT-Z1650CVD是我公司专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发、金属粉末等。配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；触摸屏控制，操作简单，更有工艺储存等功能。采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm～-1μm之间。

粉末坩埚蒸镀仪KT-Z1650CVD是我公司专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发、金属粉末等。配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；触摸屏控制，操作简单，更有工艺储存等功能。

真空镀铜蒸镀仪KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等。镀铜可打底用，增进电镀层附着能力，及抗蚀能力。

等离子清洗机郑科 探KT-S2DQX通常被用在 一：等离子表面活化/清洗；二：等离子处理后粘合;三： 等离子蚀刻/活化 四： 等离子去胶;五：等离子涂镀(亲水,疏水); 六： 增强绑定性；七：等离子涂覆；八：等离子灰化和表面改性等场合。 通过其处理，能够改善材料表面的浸润能力，使多种材料能够进行涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。

三氧化二铝磁控溅射仪KT-Z1650PVD为台式磁控溅射镀膜机在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜。仪器结构紧凑，全自动控制。利用直流磁控溅射和射频磁控溅射技术，进行某传感器基底Al2O3薄膜绝缘层的制备工艺及性能研究，对于指导薄膜传感器工艺设计及应用的快速发展，具有十分重要的理论意义及较好的工程应用价值。