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Product Center
产品简介
真空镀铜蒸镀仪KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等。镀铜可打底用，增进电镀层附着能力，及抗蚀能力。
| 品牌 | 郑科探 | 产地类别 | 国产 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,电子 |
郑科探小型蒸镀仪
-热蒸发源：电阻式热蒸发舟，交流电源；
-腔体：不锈钢或石英腔体可供客户选择；
-泵：前级干泵，分子泵；
工艺控制：PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存；-
衬底固定：单衬底固定，客户化衬底固定方式；
- 衬底夹具：加热，冷却，偏置，旋转等；
- 保护样品：配有样品挡板，可手动或自动开/关挡板，达到及时遮挡样品效果；
1.镀铜：打底用，增进电镀层附着能力，及抗蚀能力。
2.镀镍：打底用或做外观，增进抗蚀能力及耐磨能力，(其中化学镍为现代工艺中耐磨能力超过镀铬)。
3.镀金：改善导电接触阻抗，增进信号传输。
4.镀钯镍：改善导电接触阻抗，增进信号传输，耐磨性高于金。
5.镀锡铅：增进焊接能力，快被其他替物取代(因含铅现大部分改为镀亮锡及雾锡)。铜颗粒
。
铜颗粒
真空镀铜蒸镀仪KT-Z1650CVD镀样品
真空镀铜蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 | 数字式功率调整器 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
最大功率 | ≤1200W |
最大输出电压电流 | 电压≤12V 电流≤120A |
真空度 | 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤10^-3Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
样品台 | 可旋转φ62 （最大可安装φ50基底） |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品蒸发源调节距离 | 70-140mm |
蒸发温度调节 | ≤1800℃ |
支持蒸发坩埚类型 | 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
可选配扩展 | 机械真空泵（可抽真空 5分钟＜5Pa） 数显真空计（测量范围大气压到0.1Pa） 分子泵机组（可抽真空20分钟≤5x10-3Pa） |
技术支持&服务：
1. 技术支持：在合同签订之前，我们的专业工程师会在充分了解客户需求的前提下，为客户做出*的选型和方案设计，使客户充分了解并理解产品技术指标、性能用途、使用场合、安全注意事项等，以帮助客户做出正确的选择。
2. 安装与培训：在产品使用前，我们会派专业工程师为您提供现场技术支持、培训及演示服务。
3. 产品质保：我们对产品提供12个月的质保期，在质保期内发生设备或配件损坏由公司负责赔偿或免费维修。（耗材和易损件除外）
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