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Product Center粉末坩埚蒸镀仪KT-Z1650CVD是我公司专为科研院所及实验室用户群体设计开发的一款小型高真空蒸发镀膜系统。蒸发源可兼容金属、有机物蒸发、金属粉末等。配有样品挡板,可手动或自动开/关挡板,达到及时遮挡样品效果;触摸屏控制,操作简单,更有工艺储存等功能。
品牌 | 郑科探 | 产地类别 | 国产 |
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应用领域 | 化工,电子 |
粉末坩埚蒸镀仪
铬是受欢迎的金属之一。铬是一种银色,有光泽,坚硬,含杂质的铬硬而脆,具有很高的耐腐蚀性。它的熔点为1857℃,密度为7.2g / cm3,。它的名字来自希腊语“chroma",意思是颜色,因为它的颜色非常丰富。它广泛用于汽车工业,形成轮子和保险杠上的闪亮涂层。
熔点(°C)1857 密度(g / cm3)固态7.19 液体6.9 沸点: 2672.0 ℃ 热导率:90.7W/m.K (300K) 铬粉末 铬颗粒
-热蒸发源:电阻式热蒸发舟,交流电源、坩埚蒸发;
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腔体:不锈钢或石英腔体可供客户选择;
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泵:前级干泵,分子泵;
- Load Lock
样品传输腔室:手动或自动传输,高真空,支持多种样品衬底(选配);
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工艺控制:PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存;
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衬底固定:单衬底固定,客户化衬底固定方式;
- 衬底夹具:加热,冷却,偏置,旋转等;
- 保护样品:配有样品挡板,可手动或自动开/关挡板,达到及时遮挡样品效果;
以下为蒸发镀膜设备的示意图:
以下是不同真空度 不同镀膜时间碳纸镀铜样品图
原样品没有镀膜 115A 100秒 机械泵
115A 100秒 分子泵抽12分钟 115A 120秒 分子泵抽20分钟
真空度越高 越不易氧化 越接近金属本色
粉末坩埚蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 | 数字式功率调整器 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
最大功率 | ≤1200W |
最大输出电压电流 | 电压≤12V 电流≤120A |
真空度 | 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤10^-3Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
样品台 | 可旋转φ62 (最大可安装φ50基底) |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品蒸发源调节距离 | 70-140mm |
蒸发温度调节 | ≤1800℃ |
支持蒸发坩埚类型 | 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
可选配扩展 | 机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa) 数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa) 分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa) |