产品中心
Product Center
产品简介
不同的蒸发速率下沉积300nm的Au薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。高纯度金靶材磁控溅射仪KT-Z1650PVD在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学。
| 品牌 | 郑科探 | 溅射气体 | 根据需求气体 |
|---|---|---|---|
| 样品台尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 触摸屏智能控制 |
| 样品仓尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材质 | 金 铂 铜 银 | 价格区间 | 1-5万 |
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 化工,电子 |
高纯度金靶材磁控溅射仪
在不同的蒸发速率下沉积300nm的Au薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。金薄膜方阻随着蒸发速率提高无明显变化,而方阻均匀性变差,但在可接受的范围内。但蒸发速率过高会引起金属大颗粒增多。因此,选用适合的蒸发速率对Au膜质量有很大影响。
高纯度金靶材
应用领域：
离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。
高纯度金靶材磁控溅射仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数；
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
溅射电源 | 直流溅射电源 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
输出电压电流 | 电压≤1000V 电流≤1A |
真空 | 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa |
溅射真空 | ≤30Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
样品台 | 可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品溅射源调节距离 | 40-105mm |
真空测量 | 皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
当前位置：
上一个：
返回列表
