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产品简介
小型离子溅射仪镀膜仪一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时，交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体。
| 品牌 | 郑科探 | 溅射气体 | 根据需求气体 |
|---|---|---|---|
| 样品台尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 触摸屏智能控制 |
| 样品仓尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材质 | 金 铂 铜 银 | 价格区间 | 1-5万 |
| 产地类别 | 国产 | 应用领域 | 化工,电子 |
小型离子溅射仪镀膜仪
离子溅射仪在扫描电镜中应用十分广泛，通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象，并提高观测效率，另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳，实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析。
在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产
生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度增大，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作。同时，经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳极时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。
银靶材离子溅射仪KT-Z1650PVD镀膜客户反馈图：
小型离子溅射仪镀膜仪KT-Z1650PVD厂家供应技术参数；
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
溅射电源 | 直流溅射电源 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
输出电压电流 | 电压≤1000V 电流≤1A |
真空 | 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa |
溅射真空 | ≤30Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
样品台 | 可旋转φ62 （可安装φ50基底） |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品溅射源调节距离 | 40-105mm |
真空测量 | 皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
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