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Product Center半导体真空磁控溅射仪器郑州科探KT-Z1650PVD,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。
品牌 | 郑科探 | 产地类别 | 国产 |
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应用领域 | 环保,能源,电子,冶金,航天 |
郑州科探仪器设备是高质量定制物理 气相沉积(PVD)系统的设计者和制造商,客户服务和售后服务出色。拥有7年以上真空和薄膜沉积技术经验。其研发团队在学界科学家和工程师的支持下,高度积极地开发新设计以满足客户的特殊要求。
郑科探的工程团队设计和制造的组件符合高质量标准。KT-Z1650PVD真空镀膜机已通过分销商销往许多大学和研究中心,并得到了很好的参考和反馈。
仪器描述:
半导体真空磁控溅射仪器,能够在非导电或导电不良的样品上涂布金(Au),钯(Pd),铂(Pt)和金/钯(Au / Pd)的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜,使样品适用于扫描电子显微镜(SEM)分析。仪器结构紧凑,全自动控制,设计符合人体工程学,所得结果一致,可重复性高。
产品特点:
• 彩色触摸屏:数据输入简单快速
• 通过触摸屏中直观检测数据和曲线;历史页面可显示历史涂层信息。
• 可控镀膜速率,可得到更精细的晶粒结构
• 可手动或自动,根据时间或根据厚度进行溅射
• 样品台更换简单:标准旋转样品台或选用行星式旋转样品台。标准样品台高度可调、可倾斜、可旋转;行星式旋转样品台为多孔样品带来好的喷金效果。
半导体真空磁控溅射仪器技术参数;
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
溅射电源 | 直流溅射电源 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
输出电压电流 | 电压≤1000V 电流≤1A |
真空 | 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤5*10^-3Pa |
溅射真空 | ≤30Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
样品台 | 可旋转φ62 (可安装φ50基底) |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品溅射源调节距离 | 40-105mm |
真空测量 | 皮拉尼真空计(已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa) |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |