以铜 (Cu) 溅射靶材为例.在制备铜溅射靶时,不可避免地会引入硫、铅等其他杂质含量.微量的硫可以防止热加工时晶粒尺寸增大或产生微裂纹;但当硫元素含量高于18 ppm时,会出现微裂纹;随着两种杂质元素(硫和铅)，铜靶材镀膜溅射仪KT-Z1650PVD为台式磁控溅射镀膜机，仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学，所得结果一致，可重复性高。

银是一种柔软，有光泽的元素，属于元素周期表中的金属过渡族。它的熔点为961.78℃，密度为10.49g /cm3.银的理化性质均较为稳定，导热、导电性能很好，质软，富延展性。银的理化性质均较为稳定，导热、导电性能很好，质软，富延展性。其反光率*，可达99%以上。银靶材离子溅射仪KT-Z1650PVD在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学。

小型溅射仪郑科探KT-Z1650PVD 该产品为台式磁控溅射镀膜机，能够在非导电或导电不良的样品上涂布金（Au），钯（Pd），铂（Pt）和金/钯（Au / Pd）的薄膜。 在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，

mini型磁控溅射仪KT-Z1650PVD，桌面式设计小巧却功能齐全。触摸屏控制功率，样品台0-8转/分旋转，自动电动样品挡板等。

金属磁控溅射仪， 外形小巧 ，功率电流大小可调，触摸屏控制，有工艺储存功能，外配水冷机可长时间工作。