桌面式磁控溅射仪KT-Z1650PVD，外形小巧方便移动，触摸屏控制工艺记忆储存，自动电动挡板阀保护样品，石英腔室更加洁净方便清洁。

桌面式小型溅射仪KT-Z1650PVD磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（PVD）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。

桌面式溅射仪KT-Z1650PVD是一款高度集成化智能化的台式磁控溅射系统。体积小巧，但是功能出色、配置齐全。配有水冷靶，自动样品挡板，可调节溅射源距离，触摸屏控制，工艺储存等功能，方便快捷。

小型离子溅射仪镀膜仪一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时，交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体。

不同的蒸发速率下沉积300nm的Au薄膜,研究蒸发速率对薄膜表面形貌和性能的影响。随着蒸发速率的提高,薄膜的结构变得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度减小。高纯度金靶材磁控溅射仪KT-Z1650PVD在较短时间内即可形成具有细粒度的均匀薄膜，仪器结构紧凑，全自动控制，设计符合人体工程学。