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Product Center上海实验室真空PECVD射频模块薄膜均匀沉积通过反应气态放电,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点,工艺流程简单,与传统CVD系统比较,生长温度更低,管辉光均匀等效,薄膜均匀沉积。
PECVD射频模块通过反应气态放电,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式低温热等离子体化学气相沉积法具有气相法的所有优点,工艺流程简单,与传统CVD系统比较,生长温度更低,管辉光均匀等效,薄膜均匀沉积。