高温蒸镀的时候，靶材和坩埚应该怎么选择蒸镀镀铝建议客户用陶瓷坩埚：用钨舟的话容易附着上边且铝融化后有一定的浸润会与钨舟形成合金钨舟容易脆裂断开，铝极易氧化可以多抽一会真空真空度越低效果越好蒸镀镀镍建议客户用钨棒惨绕镍丝，钨舟很薄在一定温度下化合生成合金相加速钨的断裂解决方案：用1.5-2mm的钨棒长度95-100中间10mm处绕高纯镍丝(缠绕紧密一些可惨绕2层)

小型蒸镀仪的工作环境需要保持极低的气压，通常在10-4至10-7帕之间。这种低气压环境能够有效减少氧气和水蒸气对材料表面的反应，从而避免蒸镀过程中可能产生的氧化等不良反应。真空系统通常由泵、阀门、压力计和真空室等组成。小型蒸镀仪的使用方法：1.准备工作：先将蒸镀仪所需的材料和设备准备齐全，如镀膜材料、基底材料、控制系统等。2.装载基底：将待镀膜的基底材料放置在蒸镀仪的样品台上，确保基底表面干净且无硬性颗粒。3.准备镀膜材料：根据实际需要，选择合适的镀膜材料，并将其放置在蒸镀仪...

等离子清洗机的优势：1：真空度：用皮拉尼原理测量精确到Pa，千帕是用压力规测试，不是一个量级的。2：传感器：用的进口的气体流量传感器，是质量流量计检测气体，精确度是通入流量的±1.5%。浮子流量计，是满量程的4%，而且浮子球是上下浮动，手碰一下乱跑，真实效果达不了那么高。4：功率是150W，国内都是统一的。5：2路流量计，质量流量计采集更精准，流量控制2个精密针阀调节，线性调节度较好。6：真空采集皮拉尼原理真空计，测量大气压到0.1Pa的绝对真空。7：通过精准的...

小型溅射仪利用高能离子束轰击靶材料，使其原子或分子从靶材料上解离，并沉积在基板表面上，形成覆盖层。通过调节离子束的能量和强度，可以实现不同性质的薄膜制备。这种技术被广泛应用于材料表面的改性和制备高质量薄膜材料。主要用于制备薄膜材料，如金属薄膜、氧化物薄膜等。这些薄膜具有良好的准晶结构和化学性质，广泛应用于光电子、信息技术、磁学、材料科学等领域。在选购小型溅射仪时，可以考虑以下几个因素：1.薄膜材料种类：不同的型号适用于不同种类的薄膜材料，如金属薄膜、氧化物薄膜、半导体材料等。...

怎么判断哪些东西可以封？1，高温不熔化。2、高温下不与石英管产生反应。3、液体没办法抽真空，液体里又氧气。对封管机场地的要求？氢氧水焊机需要通风。石英管封口要预留多长？要留50mm-70mm（石英管内如果是熔点低物品，最少70），夹头伸进去要30mm。封管机产品优势：1、每个设备出厂有经过氦质谱捡漏测试确保气密性2、设备磁流体密封件接触气体部分采用陶瓷轴承高成本带来的是耐腐蚀（普通轴承易生锈只要腐蚀轴承就会抱死不转）3、我们是最早一批研发生产此产品的供货商工程师们都有着丰富的...

等离子刻蚀机主要是通过建立真空环境、注入适当的气体组合、产生等离子体和喷射反应气体来实现对表面的清洗和刻蚀。这种刻蚀技术广泛应用于半导体制造工艺、光学器件制造和微纳米尺度工程等领域，对于制造高精度的微纳结构具有重要的作用，以下是一些选择指南：1.根据制造工艺的需求，选择合适的等离子刻蚀机和清洗机类型。常见的等离子刻蚀机有功率和频率可调的射频等离子刻蚀机、微小结构等离子刻蚀机等。清洗机也有多种类型，如超声波清洗机、喷洗清洗机等。2.考虑生产需求和工厂空间，选择合适的设备尺寸。大...

1000度高温真空探针台，主要应用于半导体、材料科学、纳米技术、光电子、薄膜技术等领域，具有以下用途：1.半导体器件测试与表征：用于不同温度下的半导体料件、电子器件和光电子器件的性能测试和分析。2.材料性能表征：研究和测试材料在不同温度下的电学、磁学、光学等性能，以及材料的稳定性和可靠性。3.纳米结构与纳米器件研究：在纳米尺度上测量纳米结构与纳米器件的电学性能，及其在高温真空环境中的稳定性和可靠性。4.薄膜与界面性能研究：在真空环境中测试薄膜、多层膜和薄膜器件等的电学、光学性...

气体温度控制仪是通过传感器测量气体温度，并利用控制器处理测量信号并输出相应的控制信号，再通过执行器来控制加热或制冷设备，从而实现对气体温度的准确控制。这种控制仪在各种工业过程中具有广泛的应用，如化工、冶金、电力等领域。它能够提高生产效率、保证产品质量，并且具有节能、自动化等优点。根据实际需求选择气体温度控制仪需要综合考虑测量范围、精度和稳定性、响应时间、控制方式、可靠性和耐用性、价格和服务等因素，以便选购到适合自己应用场景的仪器。选购一台合适的气体温度控制仪需要考虑以下几个方...